Geode™ A CO₂-Via-Bohrsystem für FCBGA (ABF) IC-Substrate
Optimiert für Produktivität.
Entwickelt für die niedrigsten Betriebskosten.
Ausgelegt für die fortschrittlichsten Materialien.
- Hochpräzise und hochschnelle Fertigung von FCBGA ABF IC-Substraten
- AcceleDrill™: Bohren mehrerer Via-Durchmesser in einem Durchgang
- HyperSonix™: Kupfer und Material mit minimalen Pulsen abtragen
Features
CO₂-Lasersystem für hochpräzise und hochgeschwindige Herstellung von ABF-IC-Substraten. Die Geode™-Technologie ermöglicht eine umweltfreundlichere Fertigungslösung durch 21% weniger Stellfläche, 72% weniger Gewicht und bis zu 65% weniger Stromverbrauch im Vergleich zur Konkurrenz.
Video: https://youtu.be/Gmj0Ga7CpV8
Überholen Sie Ihre Konkurrenz, indem Sie den Durchsatz Ihrer starren Leiterplatten erhöhen – durch das gleichzeitige Bohren mehrerer Via-Durchmesser in einem einzigen Durchgang. Geode™ ermöglicht die Bearbeitung eines breiten dynamischen Bereichs von Via-Größen, ohne den Spotdurchmesser zu ändern.
Herkömmliche Systeme zum Bohren von Vias in starren Leiterplatten benötigen möglicherweise mehrere Pulse, um Kupfer und Material abzutragen, was den Produktionsertrag reduziert. Mit Geode™ erhöhen Sie Durchsatz und Präzision dank seiner Pulse-Chopping-Technologie, die Kupfer und Material mit minimalen Pulsen abträgt.
Erhöhen Sie Stabilität und Via-Qualität mit der einzigen Echtzeit-Leistungsregelung der Branche. Geode™ ermöglicht es Ihnen, Leistungsschwankungen aktiv zu steuern und so die Produktivität bei der Bearbeitung starrer Leiterplatten zu maximieren.
Video: https://youtu.be/A40yWB_IivU
Platzbedarf – Kompakte und leichte Systemarchitektur für mehr Flexibilität bei der Platzierung und Nutzung in der Produktion.
Video: https://youtu.be/Pl4bC6DbcX4
Das MKS-Strahlcharakterisierungswerkzeug bietet präzise In-Line-Laser-/optische Bewertung und Steuerung für verbesserte Kalibrierung und gleichbleibende Via-Qualität.
Einfach zugängliches Design verbessert die Wartungsfreundlichkeit und reduziert Wartungs- sowie Serviceausfallzeiten.
Prozesse
- Fortschrittliche HDI-Leiterplatten
- IC-Verpackung
- IC-Substrat
Materialien
- Ajinomoto Build-Up Film® (ABF)
- HDI-Anwendungen
- ICP-Anwendungen
- EMC
- Harzbeschichtetes Kupfer (RCC)
- Dielektrikum ohne CU-Beschichtung
Spezifikationen
Durchschnittsleistung | >250 W |
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Spitzenleistung | 100 W |
Plattenverarbeitung | Zwei-Kopf-System für zwei Panels |
Plattengrößenbereich | 16×20 Zoll bis 22.05×24.5 Zoll |
Höhenerkennung des Panels | Touchdown-Sensor (kalibriert zur Ausrichtung mit Kamerafokus), Z-Mapping |
Bauteildickenbereich | 50 bis 3000 µm |
Energieüberwachung | Echtzeit-Überwachung der Pulsenergie (mit programmierbaren Alarmgrenzwerten) |
Automatisierungsgenauigkeit | 500 µm (Platte zu Spannvorrichtung) |
Verarbeitung | LDD Conformal Mask |
Scanbereich | 20×20 mm (ESIs patentierte Third Dynamics™ Strahlpositionierungstechnologie) |
Scanfrequenz | 12 x 6 mm |
Durchsatz | Bis zu 9500 Punkte pro Sekunde |
Automatischer Plattenlader | Standard, Standard mit NG-Funktion, Panel-Wender mit NG-Funktion |
Gesamtsystemgenauigkeit | <7 µm |M| + 4σ |
VIA-Durchmesserbereich | 30 bis 85 µm |
Laserspulsfrequenz | 200 kHz (keine Wiederholrate) |
Technische Daten anfragen |