Geode™ A CO₂-Via-Bohrsystem für FCBGA (ABF) IC-Substrate

Optimiert für Produktivität.

Entwickelt für die niedrigsten Betriebskosten.

Ausgelegt für die fortschrittlichsten Materialien.

  • Hochpräzise und hochschnelle Fertigung von FCBGA ABF IC-Substraten
  • AcceleDrill™: Bohren mehrerer Via-Durchmesser in einem Durchgang
  • HyperSonix™: Kupfer und Material mit minimalen Pulsen abtragen


Features

CO₂-Lasersystem für hochpräzise und hochgeschwindige Herstellung von ABF-IC-Substraten. Die Geode™-Technologie ermöglicht eine umweltfreundlichere Fertigungslösung durch 21% weniger Stellfläche, 72% weniger Gewicht und bis zu 65% weniger Stromverbrauch im Vergleich zur Konkurrenz.

Video: https://youtu.be/Gmj0Ga7CpV8

Überholen Sie Ihre Konkurrenz, indem Sie den Durchsatz Ihrer starren Leiterplatten erhöhen – durch das gleichzeitige Bohren mehrerer Via-Durchmesser in einem einzigen Durchgang. Geode™ ermöglicht die Bearbeitung eines breiten dynamischen Bereichs von Via-Größen, ohne den Spotdurchmesser zu ändern.

Herkömmliche Systeme zum Bohren von Vias in starren Leiterplatten benötigen möglicherweise mehrere Pulse, um Kupfer und Material abzutragen, was den Produktionsertrag reduziert. Mit Geode™ erhöhen Sie Durchsatz und Präzision dank seiner Pulse-Chopping-Technologie, die Kupfer und Material mit minimalen Pulsen abträgt.

Erhöhen Sie Stabilität und Via-Qualität mit der einzigen Echtzeit-Leistungsregelung der Branche. Geode™ ermöglicht es Ihnen, Leistungsschwankungen aktiv zu steuern und so die Produktivität bei der Bearbeitung starrer Leiterplatten zu maximieren.

Video: https://youtu.be/A40yWB_IivU

Platzbedarf – Kompakte und leichte Systemarchitektur für mehr Flexibilität bei der Platzierung und Nutzung in der Produktion.

Video: https://youtu.be/Pl4bC6DbcX4

Das MKS-Strahlcharakterisierungswerkzeug bietet präzise In-Line-Laser-/optische Bewertung und Steuerung für verbesserte Kalibrierung und gleichbleibende Via-Qualität.

Einfach zugängliches Design verbessert die Wartungsfreundlichkeit und reduziert Wartungs- sowie Serviceausfallzeiten.


Prozesse

  • Fortschrittliche HDI-Leiterplatten
  • IC-Verpackung
  • IC-Substrat

Materialien

  • Ajinomoto Build-Up Film® (ABF)
  • HDI-Anwendungen
  • ICP-Anwendungen
  • EMC
  • Harzbeschichtetes Kupfer (RCC)
  • Dielektrikum ohne CU-Beschichtung

Spezifikationen

Durchschnittsleistung >250 W
Spitzenleistung 100 W
Plattenverarbeitung Zwei-Kopf-System für zwei Panels
Plattengrößenbereich 16×20 Zoll bis 22.05×24.5 Zoll
Höhenerkennung des Panels Touchdown-Sensor (kalibriert zur Ausrichtung mit Kamerafokus), Z-Mapping
Bauteildickenbereich 50 bis 3000 µm
Energieüberwachung Echtzeit-Überwachung der Pulsenergie (mit programmierbaren Alarmgrenzwerten)
Automatisierungsgenauigkeit 500 µm (Platte zu Spannvorrichtung)
Verarbeitung LDD Conformal Mask
Scanbereich 20×20 mm (ESIs patentierte Third Dynamics™ Strahlpositionierungstechnologie)
Scanfrequenz 12 x 6 mm
Durchsatz Bis zu 9500 Punkte pro Sekunde
Automatischer Plattenlader Standard, Standard mit NG-Funktion, Panel-Wender mit NG-Funktion
Gesamtsystemgenauigkeit <7 µm |M| + 4σ
VIA-Durchmesserbereich 30 bis 85 µm
Laserspulsfrequenz 200 kHz (keine Wiederholrate)
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